2-цалевая сапфіравая пласціна 50,8 мм, плоскасць C, плоскасць M, плоскасць R, плоскасць A

Кароткае апісанне:

Сапфір — гэта матэрыял з унікальным спалучэннем фізічных, хімічных і аптычных уласцівасцей, якія робяць яго ўстойлівым да высокіх тэмператур, цеплавых удараў, эрозіі вадой і пяском, а таксама да драпін.

Дашліце нам ліст

Падрабязнасці прадукту

Тэгі прадукту

Апісанне

Крышталь сапфіра шырока выкарыстоўваецца ў паўправадніковай прамысловасці (падкладка з нітрыду галію MOCVD), гадзіннікавай прамысловасці, медыцыне, сувязі, лазернай прамысловасці, інфрачырвонай прамысловасці, электроніцы, вымяральных прыборах, ваеннай і аэракасмічнай прамысловасці, а таксама ў многіх іншых перадавых высокатэхналагічных галінах. Наша кампанія доўгі час вырабляе высокадакладныя сапфіравыя пласціны таўшчынёй ≧0,1 мм і знешнімі памерамі ≧Φ1". Акрамя традыцыйных памераў Φ2", Φ3", Φ4", Φ6", Φ8", Φ12", можна вырабіць індывідуальныя памеры. Звярніцеся да нашых аддзелаў продажаў.

Памеры: 2 цалі, 3 цалі, 4 цалі, 6 цаляў, 8 цаляў, 12 цаляў

Таўшчыня: 100 мкм, 280 мкм, 300 мкм, 350 мкм, 430 мкм, 500 мкм, 650 мкм, 1 мм або іншыя

Арыентацыя: вось C, вось M, вось R, вось A, няправільны разрэз C па вось A або іншыя

Паверхня: SSP, DSP, шліфоўка

Апісанне: Сапфір — гэта монакрышталь аксіду алюмінію, які з'яўляецца другім па цвёрдасці матэрыялам у прыродзе пасля алмаза. Сапфір валодае добрай святлопрапускальнасцю, высокай трываласцю, устойлівасцю да сутыкненняў, зносаўстойлівасцю, каразійнай стойкасцю, а таксама ўстойлівасцю да высокіх тэмператур і ціску, біясумяшчальнасцю, можа быць выраблены ў розныя формы. Ён з'яўляецца ідэальным матэрыялам для вырабу паўправадніковых оптаэлектронных прылад.

Прыкладанне

Монакрышталь сапфіру — выдатны шматфункцыянальны матэрыял. Ён можа шырока выкарыстоўвацца ў многіх галінах, такіх як прамысловасць, абарона і навуковыя даследаванні (напрыклад, устойлівае да высокіх тэмператур інфрачырвонае акно). У той жа час ён таксама шырока выкарыстоўваецца ў якасці матэрыялу для падкладкі монакрышталя. Ён з'яўляецца пераважнай падкладкай для сучаснай прамысловасці сініх, фіялетавых і белых святлодыёдаў (LED) і сініх лазераў (LD) (неабходна эпітаксія пласта нітрыду галію на падкладцы сапфіру), а таксама з'яўляецца важнай падкладкай для звышправодных тонкіх плёнак. Акрамя вытворчасці плёнак серыі Y, серыі La і іншых высокатэмпературных звышправодных плёнак, ён таксама можа выкарыстоўвацца для вырошчвання новых практычных звышправодных плёнак MgB2 (дыборыд магнію).