У цяперашні час наша кампанія можа працягваць пастаўляць невялікую партыю 8-цалевых пласцін SiC тыпу N, калі ў вас ёсць патрэба ва ўзоры, калі ласка, не саромейцеся звязацца са мной.У нас ёсць некалькі ўзораў пласцін, гатовых да адпраўкі.
У галіне паўправадніковых матэрыялаў кампанія здзейсніла вялікі прарыў у даследаванні і распрацоўцы крышталяў SiC вялікага памеру.Выкарыстоўваючы ўласныя затраўныя крышталі пасля некалькіх раундаў павелічэння дыяметра, кампанія паспяхова вырасціла 8-цалевыя крышталі SiC N-тыпу, што вырашае складаныя праблемы, такія як нераўнамернае тэмпературнае поле, парэпанне крышталяў і размеркаванне сыравіны ў газавай фазе ў працэсе росту 8-цалевыя крышталі SIC і паскарае рост крышталяў SIC вялікага памеру і аўтаномную і кіраваную тэхналогію апрацоўкі.Значна павысіць асноўную канкурэнтаздольнасць кампаніі ў індустрыі монокристаллических падкладак SiC.У той жа час кампанія актыўна спрыяе назапашванню тэхналогій і працэсу эксперыментальнай лініі па падрыхтоўцы падкладкі з карбіду крэмнію вялікага памеру, умацоўвае тэхнічны абмен і прамысловае супрацоўніцтва ў галінах перадачы і пераходу па плыні, а таксама супрацоўнічае з кліентамі, каб пастаянна ітэраваць прадукцыйнасць прадукту і сумесна спрыяе паскорэнню прамысловага прымянення матэрыялаў з карбіду крэмнію.
| Спецыфікацыі 8-цалёвага N-тыпу SiC DSP | |||||
| Нумар | Пункт | Адзінка | Вытворчасць | Даследаванні | манекен |
| 1. Параметры | |||||
| 1.1 | політып | -- | 4H | 4H | 4H |
| 1.2 | арыентацыя паверхні | ° | <11-20>4±0,5 | <11-20>4±0,5 | <11-20>4±0,5 |
| 2. Электрычны параметр | |||||
| 2.1 | допант | -- | Азот п-тыпу | Азот п-тыпу | Азот п-тыпу |
| 2.2 | удзельнае супраціўленне | Ом ·см | 0,015~0,025 | 0,01~0,03 | NA |
| 3. Механічны параметр | |||||
| 3.1 | дыяметр | mm | 200±0,2 | 200±0,2 | 200±0,2 |
| 3.2 | таўшчыня | мкм | 500±25 | 500±25 | 500±25 |
| 3.3 | Арыентацыя выемкі | ° | [1- 100]±5 | [1- 100]±5 | [1- 100]±5 |
| 3.4 | Глыбіня надрэзу | mm | 1~1,5 | 1~1,5 | 1~1,5 |
| 3.5 | LTV | мкм | ≤5 (10 мм * 10 мм) | ≤5 (10 мм * 10 мм) | ≤10 (10 мм * 10 мм) |
| 3.6 | TTV | мкм | ≤10 | ≤10 | ≤15 |
| 3.7 | Лук | мкм | -25~25 | -45~45 | -65~65 |
| 3.8 | Дэфармацыя | мкм | ≤30 | ≤50 | ≤70 |
| 3.9 | АСМ | nm | Ra≤0,2 | Ra≤0,2 | Ra≤0,2 |
| 4. Будова | |||||
| 4.1 | шчыльнасць микротрубки | эа/см2 | ≤2 | ≤10 | ≤50 |
| 4.2 | ўтрыманне металу | атамаў/см2 | ≤1E11 | ≤1E11 | NA |
| 4.3 | ТСД | эа/см2 | ≤500 | ≤1000 | NA |
| 4.4 | БЛД | эа/см2 | ≤2000 | ≤5000 | NA |
| 4.5 | TED | эа/см2 | ≤7000 | ≤10000 | NA |
| 5. Станоўчая якасць | |||||
| 5.1 | пярэдні | -- | Si | Si | Si |
| 5.2 | аздабленне паверхні | -- | Si-face CMP | Si-face CMP | Si-face CMP |
| 5.3 | часціца | шт./вафля | ≤100 (памер ≥0,3 мкм) | NA | NA |
| 5.4 | драпаць | шт./вафля | ≤5, агульная даўжыня ≤200 мм | NA | NA |
| 5.5 | край сколы / водступы / расколіны / плямы / забруджвання | -- | Няма | Няма | NA |
| 5.6 | Политипные вобласці | -- | Няма | Плошча ≤10% | Плошча ≤30% |
| 5.7 | фасадная разметка | -- | Няма | Няма | Няма |
| 6. Якасць спіны | |||||
| 6.1 | задняя аздабленне | -- | З-асабовы дэпутат | З-асабовы дэпутат | З-асабовы дэпутат |
| 6.2 | драпаць | mm | NA | NA | NA |
| 6.3 | Дэфекты краю спіны сколы/водступы | -- | Няма | Няма | NA |
| 6.4 | Шурпатасць спіны | nm | Ra≤5 | Ra≤5 | Ra≤5 |
| 6.5 | Разметка спіны | -- | Выемка | Выемка | Выемка |
| 7. Край | |||||
| 7.1 | краю | -- | Фаска | Фаска | Фаска |
| 8. Пакет | |||||
| 8.1 | ўпакоўка | -- | Epi-ready з вакуумам ўпакоўка | Epi-ready з вакуумам ўпакоўка | Epi-ready з вакуумам ўпакоўка |
| 8.2 | ўпакоўка | -- | Мультывафельны касетная ўпакоўка | Мультывафельны касетная ўпакоўка | Мультывафельны касетная ўпакоўка |
Час публікацыі: 18 красавіка 2023 г